IE가 어른이 되기까지

깨끗한 웨이퍼가 준비되었다면 산화공정을 거쳐 웨이퍼의 주 원소인 Si가 SiO2가 되게끔 해주는데요, 이번 글에서는 산화공정이 필요한 이유와 해당 공정 방법에 대해 알아보겠습니다. SiO2가 필요한 이유 위 그림에서 볼 수 있듯이 웨이퍼의 Si에 산화공정을 거치게 되면 SiO2으로 이루어진 산화막이 형성됩니다. 왜 SiO2가 필요할까요 ? 1) Gate Insulator로서의 역할 이러한 SiO2는 Si보다 넓은 Energy gap을 가지므로 반도체에서 필요한 Gate Insulator로서 전류가 잘 안통하는 역할을 잘하게 됩니다. 2) 높은 Quality 표면이 안정적이고 매번 일정한 Quality를 가집니다. 3) Mask 역할 선택적으로 일부 영역에만 불순물을 주입하고자 할 때, SiO2는 Mask..

웨이퍼는 제조 후 이를 깨끗하게 만드는 과정이 필요한데요, 이번 글에서는 그러한 역할을 하는 Cleaning (세정) 공정에 대해 알아보겠습니다. Cleaning (세정) 공정이란 ? 웨이퍼 표면에 Particle (입자), Metal (금속), 유기물, 자연 산화막 등 미량의 불순물은 패턴 결함, 전기적 특성 저하 등 반도체 제품의 수율과 신뢰성에 부정적 영향을 줄 수 있습니다. 따라서 Polishing 작업 이후 화학물질처리, 가스, 물리적 방법을 통해 웨이퍼 표면에 있는 불순물을 제거하는 공정이 필요한데요 이걸 바로 Cleaning (세정) 공정이라 부릅니다. Wet Cleaning vs Dry Cleaning 1. Wet Cleaning (RCA, 습식 세정) Wet Cleaning은 말대로 액체..

그림을 그릴 때, 흰 종이가 필요하듯 반도체를 만들 때에도 흰 종이같은 존재가 필요한데요, 반도체에서 그러한 역할을 하는 웨이퍼에 대해 알아보겠습니다. 1. 반도체와 Si (규소) 반도체는 전류가 잘 흘러 전원을 끄기 어려운 도체, 전류가 잘 흐르지 않아 전원을 켜기 어려운 부도체에 비해 스위치처럼 만드는 것이 용이하다는 장점이 있는데요, 이러한 반도체의 웨이퍼는 Ge, GeAs로 만들어지다가 현재는 Si, 즉 규소로 만들어지고 있습니다. 반도체에 Si가 사용되는 이유 1) Insulator 형성에 용이 먼저 반도체에서는 소자 간 구분을 위해서, 전자를 가두기 위해서, 다른 도선과 접합되지 않기 위해서, 반도체를 보호하기 위해서 등 다양한 목적에 의해 Insulator(절연체)가 주로 필요한데요, 이때 ..