IE가 어른이 되기까지

이번 글에서는 산화까지 완료된 웨이퍼 위에 필요한 물질을 덮는 Deposition (증착) 공정에 대해 알아보겠습니다. Deposition 공정이란 ? Deposition(증착) 공정이란 웨이퍼 위에 반도체 소자 구동을 위해 필요한 물질을 얇은 두께의 박막(Thin Film) 형태로 덮음으로써 전기적인 특성을 갖게 하는 공정입니다. 이때, 필요한 물질을 물리적인 방법으로 증착을 하면 PVD(Physical Vapor Deposition), 화학적인 방법으로 증착하면 CVD(Chemical Vapor Deposition)라고 하는데요 이번 글에서는 PVD(Physical Vapor Deposition)에 대해 알아보겠습니다. Thin Film 평가 요소 Deposition 공정에 있어서는 Thin Film..

https://piscesue0317.tistory.com/67 [반도체 공정 및 장비] Diffusion (확산, Doping) 반도체를 만드는 데에 있어서 Doping은 필수적인데요, 이러한 Doping 과정이 필요한 이유와 Doping 방법론들에 대하여 알아보겠습니다. Doping 먼저 Doping이란 의도적으로 반도체에 불순물을 첨가함으 piscesue0317.tistory.com 지난 글에서는 Doping 방법 중 확산에 대해서만 알아봤는데요, 위 글에 Doping에 대한 정의와 관련 이론들이 함께 있으니 한 번 살펴보시면 좋을 것 같습니다 ! Ion Implantation Ion Implantation(이온주입)이란 웨이퍼 표면에 이온상태의 불순물을 주입하는 것으로 보다 정확한 양의 불순물을 ..

반도체를 만드는 데에 있어서 Doping은 필수적인데요, 이러한 Doping 과정이 필요한 이유와 Doping 방법론들에 대하여 알아보겠습니다. Doping 먼저 Doping이란 의도적으로 반도체에 불순물을 첨가함으로써 전기적 특성을 조절하는 것을 의미합니다. Doping은 앞서 말한 것 처럼 Si 웨이퍼에 Electron이나 Hole이 많게끔 의도적으로 불순물을 넣어주기도 하고 불순물로 Defect를 모으기 위한, 즉 Gettering 역할을 위해 사용됩니다. 이러한 Doping은 총 크게 2가지 방법으로 나눌 수 있습니다. 결정 성장 중 Doping 결정 성장 중 Doping을 진행할 때는 웨이퍼 제조 글에서도 알아봤다시피 Si Ingot에 Doping을 해주거나 웨이퍼 위에 추가로 성장시키는 Si ..