IE가 어른이 되기까지

지금까지 웨이퍼 위에 원하는 물질을 덮고 회로를 그리는 작업까지 알아보았는데요, 이번 글에서는 반도체에서 필요없는 부분을 제거하는 Etch(식각) 공정에 대해 알아보도록 하겠습니다 ! Etch 공정이란 ? 우리는 그동안 원하는 물질을 덮는 Deposition 공정을 거치고 Photo 공정을 거치며 사용한 PR에 따라 그리고자 하는 패턴이 남게 되었는데요 이때, Etch 공정을 통해 PR 뿐만아니라 박막 물질도 제거해줘야 원하는 반도체에 대한 구동이 가능해집니다. 결론적으로 Etch 공정은 불필요한 영역을 깎아내는 공정을 의미하는 것으로 식각에 사용하는 물질에 따라 Wet Etch와 Dry Etch로 나뉘게 됩니다. Wet Etch 먼저 Wet Etch는 Etching 용액을 사용하는 공정으로 쉽게 말해 ..

웨이퍼를 깨끗하게 만든 다음 산화시키고 원하는 Layer까지 증착시켰다면 우리가 원하는 회로 패턴을 그리는 작업이 필요한데요, 해당 과정을 Photolithography (사진) 공정이라고 말합니다. 최근 소자가 점점 미세화 되면서 패턴을 정확하게 그려내는 것이 중요해지니 더욱 잘 살펴보도록 합시다 ! Photolithography 공정이란? 쉽게 말해 웨이퍼 위에 반도체 회로를 그리는 작업을 의미합니다. 웨이퍼 위에 원하는 회로 패턴을 그리기 전, 소프트웨어를 통해 그리고자하는 회로를 디자인하고 디자인한 패턴의 전기적 특성을 미리 검토 하는 시뮬레이션 과정을 거칩니다. 그 다음 Electron Beam을 통해 디자인한 회로를 Mask에 본뜬 후 웨이퍼에 노출시켜주면 패턴이 그려지는 형식입니다. Phot..

https://piscesue0317.tistory.com/69 [반도체 공정 및 장비] PVD (물리 기상 증착, Deposition) 이번 글에서는 산화까지 완료된 웨이퍼 위에 필요한 물질을 덮는 Deposition (증착) 공정에 대해 알아보겠습니다. Deposition 공정이란 ? Deposition(증착) 공정이란 웨이퍼 위에 반도체 소자 구동을 위해 piscesue0317.tistory.com 앞선 글을 통해 Deposition(증착) 공정과 더불어 물리적 증착 방식을 활용하는 PVD에 대해서도 알아보았는데요 이번 글에서는 화학적 증착 방식을 활용하는 CVD에 대해 알아보겠습니다. CVD (Chemical Vapor Deposition) CVD(Chemical Vapor Deposition)란..